濺射和其它等離子體工藝所包含的壓強范圍均高于各類高真空泵的工作壓強范圍。在泵與真空室之間加一個節(jié)流閥就可將這些泵用
在0.5至10Pa的范圍內(nèi)。這種具有小流導(dǎo)的節(jié)流閥，允許使高壓強真空室的氣體流入泵中，同時使泵的進氣口壓強保持在泵的最高壓
強或臨界進氣口壓強以下，陰極直徑為150到200mm的典型濺射室的直徑為5OOmm,高為250mm。傳統(tǒng)的抽氣機組配用一臺6in的擴散
泵，但也有使用與之相當(dāng)?shù)牡蜏乇没驕u輪分子泵的，這樣大小的泵的最大排氣量為100至200Pa·L/s。泵更大，雖然價格更貴，但
排除氣體的速率也更快。
濺射系統(tǒng)的殘余氣體的問題要比高真空蒸發(fā)系統(tǒng)的大得多，這一方面由于增加了壁上雜質(zhì)的等離子體解吸，另一方面由于通常的濺
射淀積率要比典型蒸發(fā)率低得多。即使這兩種過程的產(chǎn)生率處于同一數(shù)量級，濺射薄膜的暴露在殘余氣體雜質(zhì)中的機會也比由蒸發(fā)
源凝結(jié)的薄膜的為多。電子和離子碰撞解吸是讓氣體從真空室室壁上釋放出來的有效方法，它甚至要比輕度烘烤更為有效。在等離
子體中，解吸的氣體似以原子態(tài)存在，這樣它們很容易會同濺射薄膜起反應(yīng)。
